D3後藤栄祐さんが5月末に行われた第６６回高分子学会年次大会において優秀ポスター賞を受賞しました。

発表題目: 「レジオブロックコポリチオフェンの合成と解析」

http://main.spsj.or.jp/nenkai/66nenkai/jp/posteraward.pdf

山形大学高分子・有機材料工学科ホームページ

https://polymorg.yz.yamagata-u.ac.jp/information/news/20170627_01/